离子光学系统-栅网
双钼栅变孔结构，较大离子流、较好的均匀性；
多次高温定型处理，保证长时间工作较小的变形量
离子源：
多极会切磁场设计，获得较大的无场区，降低功耗
中和电流可追踪，保证充分中和，避免刻蚀绝缘器件的电荷积累
电源系统：
全数字自动电源，支持手动控制及485通信接口
偏置及屏极束流的跟踪、反馈，形成闭环控制；
可存储3组工艺参数，一键启动
液晶屏显示故障状态，如短路、欠压、灭弧等
过压、过流限制，允许长期短路而不会损坏电源
辅助离子源规格：6cm，12cm，16cm，20cm
溅射离子源规格：8cm，16cm
刻蚀离子源规格：6cm，16cm，20cm，22cm
其他规格请联系我司
类型 | 刻蚀离子源 |
束流口径 | 6cm | 16cm | 20cm | 22cm |
有效直径 | ≥4cm | ≥10cm | ≥15cm | ≥16cm |
均匀性 | ≤+/-5%（4cm范围内） | ≤+/-5%（10cm范围内） | ≤+/-5%（15cm范围内） | ≤+/-5%（16cm范围内） |
最大束流 | 60mA | 150mA | 300mA | 320mA |
束压 | 100~1000eV | 100~1000eV | 100~1000eV | 100~1000eV |
工作真空 | 1×10-2~4×10-2Pa | 1×10-2~4×10-2Pa | 1×10-2~4×10-2Pa | 1×10-2~4×10-2Pa |
漏率 | ≤6.6×10-8Pa l/s | ≤6.6×10-8Pa l/s | ≤6.6×10-8Pa l/s | ≤6.6×10-8Pa l/s |
工作气体 | Ar（1~10sccm） | Ar（1~20sccm） | Ar（1~25sccm） | Ar（1~30sccm） |
冷却水 |
| ≥0.5m3/min | ≥0.5m3/min | ≥0.5m3/min |
供电要求 | 220V AC单相 | 220V AC单相 | 220V AC单相 | 220V AC单相 |
中和方式 | 钨丝 | 钨丝 | 钨丝 | 钨丝 |
通讯接口 | 485 | 485 | 485 | 485 |
安装方式 | 外安装 | 外安装 | 外安装 | 外安装 |
