规格:
靶材宽度50mm,70,80,90,100,110,120,135,150,200mm
冷却方式:直接,间接冷却
磁场强度:普通,强磁
磁场类型:平衡,非平衡,高利用率,高溅射速率
适用电源:DC/Pulsed-DC/MF/RF(RF需说明)
特点:
1.高靶材利用率>40%,大大降低靶材费用
2.宽靶面刻蚀,减少靶面打火
3.磁钢不泡水,长阴极寿命
4.优化阴极冷却系统,最高使用温度可达到450℃
5.阴极冷却主动报警装置,降低阴极烧毁风险
6.可开发定制,提供阴极2D/3D图纸,方便设计人员选型
功能:
用于各类金属和非金属靶材的溅射沉积,生产装饰、光学及各类功能膜层
应用范围:
真空镀膜领域生产装饰、光学和各类功能膜
图片、细节图:
以下溅射后靶材效果,全为我厂测试后实拍
本产品刻蚀图